半导体设备行业：涂胶显影设备是半导体制造工艺中的关键设备 国产化需求旺盛 市场发展潜力巨大

　　一、什么是涂胶显影设备

    　　涂胶显影设备是半导体制造光刻工艺中的关键设备，主要用于半导体光刻工艺中的光刻胶涂布和显影过程。涂胶显影设备的性能直接影响到光刻工序细微曝光图案的形成，以及显影工艺的图形质量，对后续蚀刻和离子注入等工艺中图形转移的结果有着深刻的影响，是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备。

    　　根据不同的应用需求，涂胶显影设备可以划分为前道涂胶显影设备和后道涂胶显影设备，前道用于晶圆制造前道工艺，后道用于封装环节中的相关工序。

    　　半导体设备行业具有较高的技术壁垒、市场壁垒和客户认知壁垒，以美国应用材料、荷兰阿斯麦、美国泛林集团、日本东京电子、美国科天等为代表的国际知名企业占据了全球半导体设备市场的主要份额。目前，我国涂胶显影设备国产化正处于加速推进阶段，但整体国产化率仍相对较低，尤其是在精度和分辨率、工艺稳定性和可靠性、产能和效率等方面与国际先进水平相比存在一定技术差距。

    　　但是随着国家对半导体产业的重视和支持力度不断加大，以及国内企业在技术研发、人才培养等方面的持续投入，我国涂胶显影设备的国产化进程有望不断加快，未来市场发展潜力巨大。

    　　二、涂胶显影设备市场需求持续攀升

    　　受益于市场景气度复苏影响，晶圆厂资本开支增加，产能逐步扩张，为涂胶　　显影设备等半导体设备厂商带来良好机遇。根据国海证券研究所测算数据，2022/2023/2024/2025 年全球前道涂胶显影设备市场空间为38/38/39/45 亿美元，2025 年中国大陆前道涂胶显影设备市场空间预计将达到18 亿美元，约合130 亿元；其中，2025 年中国大陆KrF 及以下节点、ArFi、其他涂胶显影设备市场空间为9.4/6.0/2.7 亿美元。

    　　三、涂胶显影设备行业集中度较高，国产化需求迫在眉睫当前，涂胶显影设备行业集中度较高，全球涂胶显影设备主要制造商包括日本东京电子（TEL）、日本迪恩士（DNS）、德国苏斯微（SUSS）、中国台湾亿力鑫（ELS）、韩国CND 等。

    　　前道涂胶显影设备主要被日本东京电子（TEL）所垄断。前道涂胶显影设备的市场和工艺技术长期以来均被国外厂商如日本东京电子（TEL）所垄断，特别　　是28nm 及以下节点的ArFi 浸没式涂胶显影设备，我国目前完全尚未掌握此项技术。根据日本东京电子官网数据， 2023 年TEL 涂胶显影设备（Coater/Developer）在全球的市占率达90%。

    　　我国涂胶显影设备国产化正处于加速推进阶段，但整体国产化率仍相对较低。

    　　国内部分厂商在涂胶显影设备领域已经取得了一些成果。例如，芯源微成功推出　　了包括offline、i-line、krf、arf 浸没式等在内的多种型号产品，其arf 浸没式高产能涂胶显影设备已获得国内5 家重要客户订单，在高端ntd 负显影、soc 涂布等新机台销售方面也有良好进展，打破了国外厂商在该领域的垄断，实现了28nm 及以上节点设备的国产替代。

    　　尽管有突破，但整体来看，当前国内前道涂胶显影设备国产化率仍较低，与国际先进水平仍存在一定差距，全球市场主要被日系等厂商垄断，像东京电子在我国涂胶显影设备市场就占据了较大份额。随着国家对半导体产业的重视和支持力度不断加大，以及国内企业在技术研发、人才培养等方面的持续投入，我国涂胶显影设备的国产化进程有望不断加快，未来发展前景较为广阔。

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